年初，英伟达携手半导体领域的领军企业台积电和新思科技，共同推进计算光刻平台的应用，旨在加速下一代先进半导体芯片的制造进程，挑战物理极限。英伟达的领军人物黄仁勋强调，计算光刻作为芯片制造的关键技术，通过cuLitho平台与创新算法的结合，能显著改善半导体生产工艺，超越传统CPU驱动方法的效能。
台积电已采纳cuLitho计算光刻平台，以此加快其最前沿芯片技术的开发步伐。英伟达还融入了生成式人工智能算法，与加速计算技术相辅相成，使生产效率再获双倍提升。
台积电的掌舵人魏哲家指出，双方的合作将GPU加速运算整合进台积电的工作流程，这一举措不仅带来了性能上的巨大飞越，还成功缩减了周期时长，降低了能耗标准，同时提升了处理能力。
计算光刻技术核心在于通过精密的软件模拟优化光刻过程，它借助数学手段预处理光掩模数据，调整光学效应，确保光刻图像与芯片设计的高度契合，提升成品率。cuLitho计算光刻库的巧妙运用，使得任务能够高效地分配给GPU并行处理，仅仅500台NVIDIA DGX H100即可匹敌由40000个CPU构成的系统处理能力。
据英伟达介绍，采用GPU进行计算光刻相较于CPU能实现效率40倍的跃升，极大缓解了芯片制造厂的压力，推动半导体产业迈向新的高度。台积电用上英伟达计算光刻平台生产！
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